【摘要】 一种壳体，其包括一金属基体及一形成于金属基体上的微弧氧化膜层，所述微弧氧化膜层表面形成有具镜面效果的区域，在该具镜面效果的区域内蚀刻有凹槽。一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：提供一金属基体；对该金属基体进行微弧氧化处理以在其表面形成一微弧氧化膜层；对该微弧氧化膜层进行抛光处理；在抛光后的微弧氧化膜层上蚀刻凹槽。 【专利类型】发明申请 【申请人】深圳富泰宏精密工业有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园F3区A栋 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810305310.9 【申请日】2008-10-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101730415A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H05K5/00; C25D11/00; C25D11/02; B32B15/04; B44C1/22 【发明人】戴丰源; 罗勇达; 姜传华; 韩婧; 张保申; 严琦琦; 刘伟; 乔勇 【主权项内容】一种壳体，其包括一金属基体及一形成于金属基体上的微弧氧化膜层，其特征在于：所述微弧氧化膜层表面形成有具镜面效果的区域，在该具镜面效果的区域内蚀刻有凹槽。 【当前权利人】深圳富泰宏精密工业有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园F3区A栋 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】91440300738817535K 【被引证次数】23 【被自引次数】2.0 【被他引次数】21.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】40
