【摘要】 一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件; (2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作; (3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理; (4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理; (5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗; (6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。利用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜板，投入较低，生产周期较短。 【专利类型】发明授权 【申请人】清溢精密光电(深圳)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518057 广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】南山区 【申请号】CN200810217118.4 【申请日】2008-10-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101393386B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101393386B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03F1/00; G03F1/70 【发明人】熊启龙 【主权项内容】一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法，包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件；(2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作；(3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理；(4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理；(5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗；(6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。 【当前权利人】深圳清溢光电股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】1
