【摘要】 本发明公开了一种有机酸型粗化液，其组分包括有机酸，其特征在于：其组分包括杂质离子掩蔽剂，含量百分比为0.1～3.0％。本发明与现有技术对比的有益效果是：本发明的有机酸型粗化液采用杂质离子掩蔽剂，可以有效解决粗化液容易受到诸如锡、铁杂质离子的干扰问题。减少了在用于印刷线路板的铜表面处理过程中更换粗化液的次数，延长了粗化液的使用寿命。具有抗杂质离子污染能力强、工艺宽容度大，以及便于使用的优点，而且在相同的较低蚀铜量情况下，铜表面粗化程度比较高，可以明显增强其表面与其他镀层或聚合物的结合力，确保贴膜及电镀或化学镀处理的质量。 【专利类型】发明授权 【申请人】深圳市板明科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518067 广东省深圳市南山区蛇口工业三路华达工业大厦B座首层 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】南山区 【申请号】CN200810241844.X 【申请日】2008-12-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101457360B 【公开公告日】2010-11-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101457360B 【授权公告日】2010-11-10 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23F1/16; C23F1/18 【发明人】黄志齐; 黄京华; 郝意 【主权项内容】一种有机酸型粗化液，其组分包括有机酸，其特征在于：其组分包括杂质离子掩蔽剂和络合剂；所述杂质离子掩蔽剂为羟基乙酸盐，含量为1.5％，所述络合剂为乙二胺，含量为2.8％，所述有机酸为甲酸，含量为17.5％，所述有机酸型粗化液还包括氯化铜，含量为4.0％，氯化钠，含量为10.0％，水，含量为64.2％或者，所述杂质离子掩蔽剂为柠檬酸盐，含量为1.5％，所述络合剂为乙二胺，含量为3％，所述有机酸为乙酸，含量为20.0％，所述有机酸型粗化液还包括氯化铜，含量为4.0％，氯化钾，含量为16.0％，水，含量为55.5％或者，所述杂质离子掩蔽剂为酒石酸盐，含量为0.1％，所述络合剂为氢氧化胺，含量为0.5％，所述有机酸为丙酸，含量为25.0％，所述有机酸型粗化液还包括氯化铜，含量为4.0％，氯化胺，含量为10.0％，水，含量为60.4％。 【当前权利人】深圳市板明科技股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区燕罗街道塘下涌社区朗辉路7号2栋101 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91440300738816698H 【引证次数】1.0 【他引次数】1.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】14
