【摘要】 一种能够缩短整个圆片的曝光时间的快速曝光光学系统。它是把经过掩模板并具有掩模 板图形的光束，经过半透镜的透射和反射使一束光分解为两束光，经过多次这样的分解可得 到多束光，经过反射镜调节方向可使每束光平行射出。这样得到的多束光强度相同方向平行， 在同一时间，经过掩模板的一束光可曝光出多个相同的图案，缩短了对整个圆片的曝光时间。 【专利类型】发明申请 【申请人】郭绪逢 【申请人类型】个人 【申请人地址】230009安徽省合肥市合肥工业大学南区605信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】合肥市 【申请号】CN200810156758.9 【申请日】2008-09-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685260A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F7/20; G02B27/00 【发明人】郭绪逢 【主权项内容】1、一种快速曝光光学系统，使用光学原件对光束处理用来曝光圆片，其特征是：使用半透镜 对经过掩模板的光束分解。 【当前权利人】郭绪逢 【当前专利权人地址】安徽省合肥市合肥工业大学南区605信箱 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2
