【摘要】 披露了一种修正掩膜布局图形的方法。该方法包括，首先，提供一布局图形，包含至少一段落，其中前述段落设有多个评估点，然后，解译布局图形，以获得一解译图形和一段落解译图形，前述的段落解译图形系为解译后的段落，之后，计算段落与段落解译图形，分别对应评估点的偏移量，接着，以偏移量计算出两相邻的评估点的偏移量梯度，最后依据偏移量梯度，评估两相邻的评估点之间的切分数。 【专利类型】发明申请 【申请人】南亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810178638.9 【申请日】2008-11-21 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101738849A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101738849B 【授权公告日】2012-06-06 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G03F1/14; G03F1/36 【发明人】林佳蔚; 陈堃元 【主权项内容】一种修正掩膜布局图形的方法，包含：提供一布局图形，包含至少一段落，其中该段落包含至少一第一评估点和一第二评估点；解译该布局图形，以获得一解译图形，其中该解译图形包含一段落解译图形，其中该段落解译图形包含一对应该第一评估点的第三评估点和一对应该第二评估点的第四评估点；计算该第一评估点和该第三评估点的间距，获得一第一偏移量；计算该第二评估点和该第四评估点的间距，获得一第二偏移量；计算该第一偏移量和该第二偏移量之间的一偏移变化量；以及依据该偏移变化量评估该第一评估点和该第二评估点之间的切分数。 【当前权利人】南亚科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1
