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一种基于匹配相容性的纹理合成方法专利

发布时间:2026-06-15

【摘要】 本发明公开了一种基于匹配相容性的纹理合成方法,属于计算机算法、计算机图形技术、纹理生成技术领域,该方法包括以下步骤:1)将样本纹理分成可反映其全局性纹理特征的纹理块;2)为每个纹理块生成其相应的匹配相容纹理块集合;3)随机选择一个纹理块,放置在待合成的目标纹理的一个角上,从相应的匹配相容纹理块集合中选择相配的纹理块,开始纹理合成;4)根据已合成部分纹理块逐步地约束生成待合成部分,直至完成目标纹理合成。本发明不需要在线地进行复杂的相似性计算,可极大地减少每次选用纹理块时需要考察的纹理块数量,由此很好地提高纹理合成的速度,能以交互的速度生成1024*1024大小的纹理。。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院软件研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100190 北京市海淀区中关村南四街4号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810239424.8 【申请日】2008-12-09 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101441775B 【公开公告日】2010-09-08 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101441775B 【授权公告日】2010-09-08 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G06T15/20; G06T15/04 【发明人】王文成; 刘飞彤; 黄沛杰; 吴恩华 【主权项内容】一种基于匹配相容性的纹理合成方法,包括以下步骤:1)采用纹理块的信息包容性度量参数和周期性度量参数,将样本纹理分成可反映其全局性纹理特征的纹理块;2)为每个纹理块生成其相应的匹配相容纹理块集合,具体方法为根据纹理块在重叠区域的误差计算两纹理块是否匹配,以穷举方法找到每个纹理块的左、右、上和下4个匹配相容纹理块集合;3)随机选择一个纹理块,放置在待合成的目标纹理的一个角上,从相应的匹配相容纹理块集合中选择相配的纹理块,开始纹理合成;4)根据已合成部分纹理块逐步地约束生成待合成部分,直至完成目标纹理合成。 【当前权利人】中国科学院软件研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区中关村南四街4号 【统一社会信用代码】121000004000123696 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】8

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