【摘要】 本发明公开了一种测试涂层/薄膜-基体界面结合强度的弹丸冲击法，包括如下步骤：制备涂有待测涂层的平板试样；制备有涂层的弹丸，弹丸基体由声阻抗较低的材料制成；用发射装置发射弹丸，使弹丸以覆有涂层部位垂直冲击试样上的基体表面；测量弹丸与试样接触时的初速度，并通过已知的数值计算和理论分析，求得试样涂层/薄膜-基体界面应力历史；测量试样上的涂层/薄膜-基体界面剥离特征尺寸，建立涂层/薄膜-基体界面应力历史与涂层/薄膜-基体界面剥离特征尺寸的关系，以评价涂层/薄膜-基体界面结合性能。本发明原理简单、模型清晰；能测试强结合涂层的涂层/薄膜-基体界面结合性能及涂层/薄膜-基体界面动态性能，可操作性强。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院力学研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】100080 北京市海淀区北四环西路15号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810101299.4 【申请日】2008-03-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101236152B 【公开公告日】2010-12-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101236152B 【授权公告日】2010-12-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01N19/04 【发明人】吴臣武; 陈光南; 张坤; 罗耕星; 卢哲猛; 廖孟豪; 杨班权 【主权项内容】一种测试涂层/薄膜‑基体界面结合强度的弹丸冲击法，其特征在于，包括如下步骤：1)制备涂有待测涂层的平板试样；2)制备有弹丸涂层的弹丸，弹丸基体由声阻抗较低的材料制成；3)用发射装置发射弹丸，使弹丸以覆有涂层部位垂直冲击试样上的基体表面；4)测量弹丸与试样接触时的初速度，并通过已知的数值计算和理论分析，求得试样涂层/薄膜‑基体界面应力历史；5)测量试样上的涂层/薄膜‑基体界面剥离特征尺寸，建立涂层/薄膜‑基体界面应力历史与涂层/薄膜‑基体界面剥离特征尺寸的关系，以评价涂层/薄膜‑基体界面结合性能。 【当前权利人】中国科学院力学研究所 【当前专利权人地址】北京市海淀区北四环西路15号 【统一社会信用代码】1210000040001222XA 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】14
