【摘要】 一种耐高温高压萃取池，包括压帽、密封垫、萃取池体、定位密封环，萃取池体内设有流体通道，定位密封环内设有流体通道，所述定位密封环的下端面沿圆周设有密封环凸台，所述萃取池体的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台，所述密封垫的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽和下凹槽，所述密封环凸台与上凹槽接触密封，所述池体凸台与下凹槽接触密封；在密封垫和定位密封环的外圆周设有固定圈；压帽上部与定位密封环相固定，下部与萃取池体相连。本发明耐高温高压萃取池结构简单、密封可靠性高。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京吉天仪器有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号6座西4层北京吉天仪器有限公司 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810119516.2 【申请日】2008-09-02 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101468261B 【公开公告日】2010-12-08 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101468261B 【授权公告日】2010-12-08 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】B01D11/00 【发明人】叶建平; 顾爱平; 裴晓华; 史俊稳 【主权项内容】一种耐高温高压萃取池，包括压帽(1)、密封垫(2)、萃取池体(3)、定位密封环(4)，萃取池体(3)内设有流体通道(31)，定位密封环(4)内设有流体通道(41)，所述定位密封环(4)的下端面沿圆周设有密封环凸台(5)，所述萃取池体(3)的上、下端面沿圆周分别设有池体凸台(6)，压帽(1)上部与定位密封环(4)相固定，下部与萃取池体(3)相连，其特征在于：所述密封垫(2)的上、下端面沿圆周分别设有上凹槽(7)和下凹槽(8)，所述密封环凸台(5)与上凹槽(7)接触密封，所述池体凸台(6)与下凹槽(8)接触密封；在密封垫(2)和定位密封环(4)的外圆周设有固定圈(9)。 【当前权利人】北京吉天仪器有限公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号6座西4层北京吉天仪器有限公司 【专利权人类型】有限责任公司(法人独资) 【统一社会信用代码】91110105801717781C 【引证次数】4.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】2
