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绣花方巾(A8855)专利

发布时间:2026-05-29

【摘要】 平面产品,省略其他视图。 【专利类型】外观设计 【申请人】卢学法 【申请人类型】个人 【申请人地址】318000浙江省台州市椒江区前所街道椒北大街20号台州市绣都服饰有限公司 【申请人地区】中国 【申请人城市】台州市 【申请人区县】椒江区 【申请号】CN200630116437.8 【申请日】2006-09-04 【申请年份】2006 【公开公告号】CN3672249D 【公开公告日】2007-07-25 【公开公告年份】2007 【授权公告号】CN3672249D 【授权公告日】2007-07-25 【授权公告年份】2007.0 【发明人】卢学法 【主权项内容】无 【当前权利人】卢学法 【当前专利权人地址】浙江省台州市椒江区前所街道椒北大街20号台州市绣都服饰有限公司

  • 【摘要】省略其它视图。【专利类型】外观设计【申请人】陈玲斐【申请人类型】个人【申请人地址】317000浙江省温岭市工业城机电工业园区朝阳路台州华茂工艺品有限公司【申请人地区】中国【申请人城市】台州市【申请人区县】温岭市【申请号】CN2006
  • 【专利类型】外观设计【申请人】张迪军【申请人类型】个人【申请人地址】315300浙江省慈溪市长河镇金小路工业区宁波永佳电子科技有限公司【申请人地区】中国【申请人城市】宁波市【申请人区县】慈溪市【申请号】CN200630128899.1【申请
  • 【摘要】1.后视图与主视图对称,省略后视图。 2.仰视图不易见到,省略仰视图。【专利类型】外观设计【申请人】陈仁德【申请人类型】个人【申请人地址】317500浙江省温岭市太平街道南泉2期工业区温岭市环力电器有限公司【申请人地区】中国【申请人
  • 【专利类型】外观设计【申请人】张士新【申请人类型】个人【申请人地址】315315浙江省慈溪市观海卫工业园西区宁波泰育文具有限公司【申请人地区】中国【申请人城市】宁波市【申请人区县】慈溪市【申请号】CN200630119425.0【申请日】2
  • 【摘要】本发明属于光电子技术领域,涉及一种碲铟汞光电探测器,包括碲铟汞晶片,在碲铟汞晶片的正面生长有钝化保护层,在钝化保护层上设有一对形状对应的刻槽,刻槽贯透钝化保护层,在两刻槽内碲铟汞晶体的表面生长有一层阳极氧化层,在刻槽内阳极氧化层的表
  • 【专利类型】外观设计【申请人】周发崇【申请人类型】个人【申请人地址】317500浙江省温岭市泽国镇台洛新村2路26号【申请人地区】中国【申请人城市】台州市【申请人区县】温岭市【申请号】CN200630158916.6【申请日】2006-11