【摘要】 一种制取尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的水溶液法工艺过程。这种复合材料是用下列原料进行原位缩聚反应制取的：至少含有80mole％己二酸的二羧酸；至少含有80mole％苯二甲胺的胺化物；至少在一种次(亚)磷酸化合物(如次磷酸钠、亚磷酸二苯酯、亚磷酸三苯酯等)和弱酸的碱金属化合物存在下进行缩聚反应，次磷酸化合物的含量为己二酸和苯二甲胺总重量的0.05％－0.8％；至少含有重量份数为0.1－10％有机化纳米蒙脱土。反应在惰性气体保护下进行，先通过水溶液法制得纳米蒙脱土尼龙MXD6盐，再在一定压力和温度下进行原位缩聚合，合成得到尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料。 【专利类型】发明申请 【申请人】浙江阳光纳米科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】317100浙江省三门县工业园区 【申请人地区】中国 【申请人城市】台州市 【申请人区县】三门县 【申请号】CN200610053171.6 【申请日】2006-08-28 【申请年份】2006 【公开公告号】CN1931921A 【公开公告日】2007-03-21 【公开公告年份】2007 【发明人】祝佳才; 应继儒; 张进 【主权项内容】1.一种尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的制备方法，其特征在于采用原位缩聚的生产方 法得到。。 【当前权利人】浙江阳光纳米科技有限公司 【当前专利权人地址】浙江省三门县工业园区 【专利权人类型】其他有限责任公司 【统一社会信用代码】91331022751907324M 【被引证次数】17 【被他引次数】17.0 【家族被引证次数】17
