【摘要】 本发明涉及到一种高化学纯度的金刚石微粉及其提纯方法。所述高纯金刚石微粉表面吸附的微量金属杂质总量不高于80μg/g，单种金属杂质含量不高于5μg/g，NH4+含量不高于10μg/g，各种形态的硅的总量不高于30μg/g，Cl－、SO42－、PO43－、NO3－等阴离子含量不高于50μg/g，单种阴离子含量不高于10μg/g。所述高纯金刚石微粉是采用硝酸、高氯酸、氢氟酸对静压合成或者爆轰合成的金刚石微粉进行湿法化学处理，再用高纯水洗涤净化，然后进行干燥制造而成。所述高纯金刚石微粉制造诸如单晶硅片、集成电路板、计算机硬盘盘片等高纯净度产品的研磨、抛光等领域有着广泛的应用前景。 【专利类型】发明申请 【申请人】河南省联合磨料磨具有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】450006河南省郑州市郑州经济技术开发区经南三路92号 【申请人地区】中国 【申请人城市】郑州市 【申请人区县】新密市 【申请号】CN200610128334.2 【申请日】2006-12-05 【申请年份】2006 【公开公告号】CN101028924A 【公开公告日】2007-09-05 【公开公告年份】2007 【授权公告号】CN100528748C 【授权公告日】2009-08-19 【授权公告年份】2009.0 【发明人】庞海岩; 汪静 【主权项内容】1.一种高纯金刚石微粉，粒度峰值在0～50μm之间，其特征是：所述高 纯金刚石微粉表面吸附的微量阴阳离子含量水平如下： 阴阳离子总含量？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？≤10-5g/g，其中： ICP-AES或AAS法测定微量金属杂质总量？？≤80μg/g ICP-AES或AAS法测定单种金属杂质含量？？≤5μg/g IC法测定NH4 +含量？？？？？？？？？？？？？？？？？？≤10μg/g ICP-AES法测定各形态硅的总量？？？？？？？？？≤30μg/g IC法测定阴离子总量？？？？？？？？？？？？？？？？？？≤50μg/g IC法测定单种阴离子含量？？？？？？？？？？？？？？≤10μg/g 所述的微量金属杂质包括Al、B、Ba、Ca、Co、Cr、Cu、Fe、K、Li、 Mg、Mn、Na、Ni、Pb、Sr、Ti、Zn、Zr中的部分元素或者上述全部元素， 所述的阴离子总量包括Cl-、SO4 2-、PO4 3-、NO3 -中的部分或全部。 【当前权利人】河南联合精密材料股份有限公司 【当前专利权人地址】河南省郑州市经开区自贸试验区郑州片区(经开)第十七大街与经南八北二路交叉口东80米路北 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】914101007407042147 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
